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電鍍銅用于鑄模,鍍鎳,鍍鉻,鍍銀和鍍金的打底,
修復磨損部分,防止局部滲碳和提高導電性。分為堿性鍍銅和酸性鍍銅二法。通常為了獲得較薄的細致光滑的銅鍍層,
將表面除去油銹的鋼鐵等制件作陰極,純銅板作陽極,掛于含有氰化亞銅、 和碳酸鈉等成分的堿性電鍍液中,進行堿性( )鍍銅。
為了獲得較厚的銅鍍層,必須先將鍍件進行堿性鍍銅,再置于含有硫酸銅、硫酸鎳和硫酸等成分的電解液中,進行酸性鍍銅。此外,還有焦磷酸鹽、
酒石酸鹽、乙二胺等配制的無氰電解液。焦磷酸鹽電解液已被廣泛采用
在化學鍍銅過程中CU2+離子得到電子還原為金屬銅,還原劑放出電子,本身被氧化。其反應實質和電解過程相同,只是得失電子的過程是在短路狀態下進行的,在外部看不到電流的流通。因此化學鍍是一種非常節能的電解過程,因為它沒有外接電源,電解時沒有電阻壓降隕耗。從一個簡單的實例可以證明:化學鍍銅時可以將印制板以間隔5-10mm的距離排放,一次浸入到化學鍍銅液中進行鍍銅,而用電鍍法是無法做到的。化學鍍銅可以在任何非導電的基體上進行沉積,利用這一特點在印制板制造中得到了廣泛的應用。應用多的是進行孔金屬化,來完成雙面或多層印制板層間導線的聯通。另外用一次沉厚銅的加成法制造印制板。
電鍍銅(copper(electro)plating;electrocoppering )
用于鑄模,鍍鎳,鍍鉻,鍍銀和鍍金的打底,修復磨損部分,防止局部滲碳和提高導電性。分為堿性鍍銅和酸性鍍銅二法。通常為了獲得較薄的細致光滑的銅鍍層,將表面除去油銹的鋼鐵等制件作陰極,純銅板作陽極,掛于含有氰化亞銅、 和碳酸鈉等成分的堿性電鍍液中,進行堿性( )鍍銅。為了獲得較厚的銅鍍層,必須先將鍍件進行堿性鍍銅,再置于含有硫酸銅、硫酸鎳和硫酸等成分的電解液中,進行酸性鍍銅。此外,還有焦磷酸鹽、酒石酸鹽、乙二胺等配制的無氰電解液。焦磷酸鹽電解液已被廣泛采用。
陰極表面溶液濃度漸稀的異常液膜稱為陰極膜(Cathode Pilm)或擴散層(Diffusion Layer),系指原始銅濃度Cu++重量比下降l%起(99%)到陰極的0%為止的薄液層而言。原本水分子與銅離子所組成的陰極膜,其各處膜厚并不均勻,加入載運劑后此薄膜即將變為厚度增加且均勻性更好的液膜,使得鍍銅層厚度也漸趨均勻。本劑可采CVS或HPLC進行分析。
實用電鍍銅槽液中其實早已加入許多有機添加劑,使得簡單銅離子(Cu++)的四周,會自動吸附了許多臨時配位的有機物,因而帶正電性往陰極泳動較大型的銅游(離)了團,其于極面進行反應所需要的外電壓,自必會比簡單離子要高一些。于是其超電壓或極化情形又會增多了一些。一般電鍍業者的"極化"觀念,多半是著眼在加入有機助劑后,針對原始配方在反應中所超出的電位,或所增加的極化而言。
用于鑄模,鍍鎳,鍍鉻,鍍銀和鍍金的打底,修復磨損部分,防止局部滲碳和提高導電性。分為堿性鍍銅和酸性鍍銅二法。通常為了獲得較薄的細致光滑的銅鍍層,將表面除去油銹的鋼鐵等制件作陰極,純銅板作陽極,掛于含有氰化亞銅、 和碳酸鈉等成分的堿性電鍍液中,進行堿性( )鍍銅。為了獲得較厚的銅鍍層,必須先將鍍件進行堿性鍍銅,再置于含有硫酸銅、硫酸鎳和硫酸等成分的電解液中,進行酸性鍍銅。此外,還有焦磷酸鹽、酒石酸鹽、乙二胺等配制的無氰電解液。焦磷酸鹽電解液已被廣泛采用。
陰極表面溶液濃度漸稀的異常液膜稱為陰極膜(Cathode Pilm)或擴散層(Diffusion Layer),系指原始銅濃度Cu++重量比下降l%起(99%)到陰極的0%為止的薄液層而言。原本水分子與銅離子所組成的陰極膜,其各處膜厚并不均勻,加入載運劑后此薄膜即將變為厚度增加且均勻性更好的液膜,使得鍍銅層厚度也漸趨均勻。本劑可采CVS或HPLC進行分析。
實用電鍍銅槽液中其實早已加入許多有機添加劑,使得簡單銅離子(Cu++)的四周,會自動吸附了許多臨時配位的有機物,因而帶正電性往陰極泳動較大型的銅游(離)了團,其于極面進行反應所需要的外電壓,自必會比簡單離子要高一些。于是其超電壓或極化情形又會增多了一些。一般電鍍業者的"極化"觀念,多半是著眼在加入有機助劑后,針對原始配方在反應中所超出的電位,或所增加的極化而言。